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半导体中的杂质对电阻率的影响非常大。半导体中掺入微量杂质时，杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态。

一、半导体材料工业纯水设备介绍：

工业纯水设备主要采用反渗透处理工艺，一般也被我们可以称之为反渗透去离子水设备，反渗透设备是一种需要利用压力进行反渗透（半透过）性膜的力能以压力为推动力的反渗透膜分离科学技术，当进水中所加的压力影响大于进水标准溶液渗透压时，水分子不断地提高透过膜，经过产水流道流入纯水水箱，然后在一端流出水中的杂质，如大离子、有机物等，被截留在膜的进水侧，然后在浓水出水端流出，从而能够达到一个分离得到净化水源目的。

二、半导体材料工业纯水设备组成：

成套工业纯水设备一般包括预处理系统，反渗透装置，后处理系统，清洗系统和电气控制系统等..预处理系统通常包括原水泵，石英砂过滤，活性炭过滤，树脂过滤，软化和其它精密的过滤器。其主要作用是可以降低原水的污染指数和余氯等其他一些杂质，达到提高反渗透的进水设计要求。预处理装置配置系统应根据原水的具体情况。