抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

1、 增加生产量， 操作人员不再需要中断抛光工作,可以自动的控制抛光液的喷涂。

2、 节省操作时间,提高产能。

3、 节省清洗时间， 抛光液是水性的配方, 抛光后工程的清洗工序更容易,可以节省的清洗时间。

4、 抛光轮寿命增加， 喷涂液体研磨剂对研磨轮之轮缘表面温度有冷却作用。

5、 大大减低 研磨轮的损耗， 从而增加研磨轮的寿命。

6、 增加产品的稳定性能， 避免了人手操作的不确定性。

抛光时，高速旋转的抛光轮（圆周速度在20米/秒以上）压向工件，使磨料对工件表面产生滚压和微量切削，从而获得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可达Ra0.63～0.01微米;当采用非油脂性的消光抛光剂时，可对光亮表面消光以改善外观。 大批量生产轴承钢球时，常采用滚筒抛光的方法。